全球华人书画摄影展

纪念世界反法西斯暨中国人民抗日战争胜利70周年

--征稿通知--


时间:2015年8月28日-9月7日

地点:美国中国美术馆

地址:20965 Lycoming St. Diamond Bar, CA 91789 U.S.A.


主办单位:美国华人社团联合会
承办单位:美国中国美术馆
协办单位:美国洛杉矶郡政府,河滨市郡政府,圣贝纳迪诺郡政府,国际中国美术家协会,美国美中交流促进
会,美国中华艺术学会,美国华人总商会,美国罗省总商会,洛杉矶沈阳总商会,美国华人华侨联谊会,美国
飞虎队成员,星岛日报,美国《美中时报》,美中文化教育基金会,《中华艺术》杂志,美国华美银行,中国
南方航空公司,中国战略与管理研究会,抚顺抗日纪念馆,沈阳918纪念馆,上海承扬文化传播有限公司,上
海市借山艺术投资公司,沈阳书画院,沈阳摄影家协会,侵华日军南京大屠杀遇难同胞纪念馆

征稿作品要求:

1、美术作品国画、油画、版画,以反对战争、维护和平与发展为主题,作品尺寸不限。
2、书法作品以反对战争、维护和平全世界各族人民大团结为主题,作品尺寸不限。
3、摄影作品以历史事件、反法西斯和抗日战争为主题,作品以电子版投稿。
征稿截止日期:2015年8月10日

美国中国美术馆简介:
美国中国美术馆CHINESE ART MUSEUM OF AMERICA是在美国政府正式注册成立的专业艺术展览研究
机构,占地面积50000英尺,展览空间10000英尺,下设展览部、收藏部、研究部、国际交流部、《中华艺术》
杂志。主要功能:展览展示,艺术收藏,艺术研究、国际交流、艺术品交易、编辑出版。可策划及承办美术
、摄影、雕塑等艺术展览,策划、编辑、出版多语言书籍!E-mail: Chinese_art2015@126.com