近日，荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔(ASML)宣布，或将推迟向中国半导体制造商交付极紫外光光刻机(EUV)。该公司发言人表示，此决定是因为出口许可证到期，目前正在向荷兰政府申请新的许可证。

　　作为极紫外光刻芯片工具(EUV)的全球唯一供应商，延迟发货将对中国芯片制造造成重击。而此次受到影响的中国公司，疑为中芯国际(SMIC)。

　　日经新闻援引消息人士的话称，ASML成为美国政府的“牺牲品”，“延迟发货”的一大原因来自于美国政府的压力。

　　对此，ASML在7日回应，指出公司正在申请许可证，但日经新闻所述“延迟出货”仅为其媒体推测，ASML对此事从未评论或确认。

　　中芯国际也就此事回应称，公司的EUV还处于“纸面工作”阶段，尚未进行相关活动。中芯国际强调，目前，公司的先进工艺研发进展顺利，研发与生产的连接一切正常，客户与设备导入均正常运作。

　　尽管中芯已经澄清发文澄清，但是鉴于中兴的前车之鉴，光刻机作为芯片制造的必需设备，如果真的断供我们国家是否有补救措施呢?中国的光刻机技术又是否能代替国外呢?

       ASML光刻机有多厉害?

　　光刻机，被称为现代光学工业之花，制造难度非常大，全世界只有少数几家公司能够制造。其售价高达7000万美金。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

　　在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰(ASML)技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物。

　　光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微投射到底片，蚀刻掉一部分胶，露出硅面做化学处理。制造芯片，要重复几十遍这个过程。位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。SMEE光刻机使用的镜片，得数万美元一块。ASML的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技术积淀。

　　另外，光刻机需要体积小，但功率高而稳定的光源。ASML的顶尖光刻机，使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂。有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。贺荣明说：“相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏了。”而且，温湿度和空气压力变化会影响对焦。“机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。”贺荣明说。SMEE最好的光刻机，包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛，任何一个人发挥失常就要输球。

　　目前，全球只有一家企业在光刻机市场上占据了80%的份额，就是处于荷兰的ASML，旗下所研发的EUV光刻机曾售价高达1亿美元一台，而且还不一定有货。皆因每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右。国际上著名的芯片制造商如Intel、台积电、三星都是它名下的股东。

　　中国光刻机技术和ASML的差距有多大?

　　目前，中国的光刻机技术和ASML相比，至少有10年以上的差距，短时间内很难追上。

　　在光刻机领域，有人根据ASML的技术并结合芯片制造，分为四个档次，分别是超高端，高端，中端，低档。分别对应的节点分别5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺，65-90nm工艺。目前ASML的产品覆盖所有档次，而nikon的产品停留在28nm这个节点，cannon和smee(上海微电子)停留在90nm这个节点。

　　是的，中国的最高技术是90nm，生产出来的光刻机处于低端，只能生产90nm的芯片，而在90nm之后，还有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。而这些节点技术，有好几个台阶要上，首先是45nm的台阶，再到22nm的台阶，再到10nm台阶，再到7nm的台阶，真的是一步一个坎，有些坎几年都未必能够更新出一代来。

　　所以说，从目前的这个情况来看，国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上。也就是说，如果真的断供，“卡脖子”的事情极有可能发生。